气相二氧化硅和纳米二氧化硅是两种在材料科学领域中广泛应用的材料，它们之间存在着一些明显的区别。

首先，气相二氧化硅是一种通过化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition）方法制备的材料，在高温环境下将气体前体分解并沉积在基底表面，形成连续的硅氧化物薄膜。而纳米二氧化硅则是通过溶胶-凝胶法或乳胶法合成的纳米材料，通过控制反应条件和表面修饰，可以得到不同尺寸和形貌的纳米二氧化硅颗粒。

其次，气相二氧化硅的薄膜形式使它具有良好的平整和连续性，常用于制备光电元件、光学涂层和传感器等应用。因为其薄膜的厚度通常在几十纳米到几个微米之间，因此它在微电子和集成电路领域也有广泛的应用。而纳米二氧化硅颗粒由于具有较大的比表面积和尺寸效应，可以用于催化剂、填料增强、药物传递等领域。

此外，气相二氧化硅的制备过程相对复杂，需要高温和高真空条件，而纳米二氧化硅的合成方法相对简单，可通过溶液反应在室温下进行。这使得纳米二氧化硅制备成本相对较低，且更易于进行大规模生产。

最后，气相二氧化硅在表面修饰和功能化方面具有一定的局限性，通常需要经过一系列的后处理步骤来实现特定的表面性质。而纳米二氧化硅由于其较大比表面积和活性表面，可以通过表面修饰来调控其化学性质和相互作用，从而实现更加精细的应用。

综上所述，气相二氧化硅和纳米二氧化硅虽然都是二氧化硅材料，但它们在制备方法、形态结构、应用领域和表面性质等方面存在着显著的区别。这些不同使得它们在材料科学和工程领域中有着各自独特的应用价值，并且为相关领域的研究和发展提供了不同的选择和可能性。